什么是光刻工艺_什么是光纤收发器

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...申请控制半导体工艺的方法和半导体处理装置专利,能有效执行光刻工艺通过向形成在样本晶片上的第二光刻胶层照射第二剂量的极紫外光来形成多个主套刻键标;基于从多个主套刻键标测量的主套刻误差来确定主校正参数;以及基于主校正参数,对与样本晶片不同的晶片执行光刻工艺。本文源自金融界

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中航电测:间隙光刻机构及其光刻方法专利使用紫外光源,应用于电阻...金融界5月17日消息,有投资者在互动平台向中航电测提问:请问公司专利“一种间隙光刻机构及其光刻方法"使用的是哪种光源?能否用在芯片制造工艺上?麻烦回复一下,不要故意不回复呢!公司回答表示:公司此项发明专利使用的是紫外光源,应用于公司核心产品电阻应变计的生产。本文源...

捷捷微电:两项光刻胶用法专利技术应用于生产工艺金融界4月29日消息,有投资者在互动平台向捷捷微电提问:请问公司有没有光刻胶产品?公司有没有能应用到光刻机的产品?公司回答表示:该产品为公司的原材料,公司有两项专利是关于该产品的用法,该专利技术已应用到公司产品的生产工艺中。本文源自金融界AI电报

澳弘电子申请基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺专利,能够提高覆...金融界2024年3月13日消息,据国家知识产权局公告,常州澳弘电子股份有限公司申请一项名为“一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺“,公开号CN117693127A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示,本发明属于电路板技术领域,尤其涉及一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工...

泰晶科技:公司所用的光刻工艺设备主要是自主研发金融界2月7日消息,有投资者在互动平台向泰晶科技提问:公司所用的光刻工艺设备都是自主研发的吗?公司回答表示:公司所用的光刻工艺设备主要是自主研发,公司始终坚持走自主研发与外采相结合之路。本文源自金融界AI电报

受益于多重曝光光刻工艺 掩膜版产业或将释放业绩弹性华泰证券研报指出,在多重曝光光刻工艺,增量最大的是半导体材料,尤其是光刻环节相关(四次曝光)。半导体材料中占比最大的是硅片达到35%,掩膜版占比为12%,光刻胶占比为6%。这其中硅片和掩膜版的上中游供应链相对集中,弹性较大。 掩膜版又称为光掩模、光罩、光刻掩膜版,作为...

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晶合集成申请仿真技术专利,能够改善在光刻工艺中出现光阻凸起的问题金融界2023年12月4日消息,据国家知识产权局公告,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”,公开号CN117148689A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示,本发明提供一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质,其通...

三星申请临界尺寸检查方法专利,能识别光刻工艺中的缺陷原因在所述衬底上施加光刻胶;可变地将一定剂量的光照射到所述光刻胶上;执行光刻工艺以对所述光刻胶进行显影,从而形成光刻胶图案;使用所述光刻胶图案作为蚀刻掩模执行蚀刻工艺以形成多个图案;测量所述多个图案中的每一个图案的宽度和所述多个图案中的相邻图案之间的间距;以及基...

长鑫存储取得光掩膜板及其形成方法专利,提高光刻工艺的生产加工良率能够改善使用光掩膜板进行光刻时,转印的图形边界模糊、不精准的情况,提高光刻工艺的生产加工良率。所述光掩膜板具有图案区域,包括:基板;形成于所述基板上表面的相移层;形成于所述相移层上表面的第一光遮蔽层,所述第一光遮蔽层沿所述图案区域的边缘设置,所述第一光遮蔽层的...

...级六甲基二硅氮烷可作为增粘剂与光刻胶配套使用于芯片光刻工艺中【新亚强:公司电子级六甲基二硅氮烷可作为增粘剂与光刻胶配套使用于芯片光刻工艺中】财联社9月7日电,新亚强在互动平台表示,公司电子级六甲基二硅氮烷可作为增粘剂与光刻胶配套使用于芯片光刻工艺中,目前产销正常。