什么是光刻机其原理是什么

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沃格光电:公司玻璃基光刻技术与半导体光刻机技术原理类似和大家说的光刻机光刻技术是否类似?公司回答表示:公司拥有的玻璃基光刻技术,其主要工艺是在玻璃基材上进行镀铜或者其他材料、曝光、显影、蚀刻后,得到具备相关功能的电路(如触控感应电路,指纹感应电路,精密镀铜线路等),与半导体光刻机技术原理类似,只是由于产品应用领域差异...

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˙▽˙ 高端芯片,无需光刻机就能自己“生长”出来传统半导体芯片性能主要取决于多层晶体管的密集堆叠,如今随着新兴的人工智能,发展芯片所需要的成本越发高昂。目前,高端芯片的制作需要使用光刻机,其工作原理是使用一束强光通过类似于定焦摄像头的透镜系统,将光线聚焦在一个晶圆上。晶圆是一种由硅等材料制成的圆形片,上面...

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≥＾≤ 回顾:不用光刻机也能生产芯片?纳米压印技术的出现,到底靠不靠谱?可以不用EUV光刻机,也能生产芯片。这种技术是怎么做到的呢?它有什么优点和缺点呢?它能不能取代EUV光刻机呢?纳米压印技术的原理芯片是我们现代生活中不可或缺的东西,从手机到电脑,从电视到冰箱,几乎所有的电子设备都需要芯片来运行。芯片的制造工艺越先进,芯片的性能就...

＋▂＋ 股民提问波长光电:公司半导体光刻机光源系统是否可满足相关技术要求?之前互动你提到公司成功开发的半导体光刻机光源系统可用于国产光刻机配套领域并已交付。最近清华大学的EUV光刻机方案备受关注,尤其是方案中的光源系统最为核心,公司是否有关注该方案?公司目前已交付的半导体光刻机光源系统原理是否相近?可以满足相关技术要求?股民留言...

可制造5nm芯片!佳能:纳米压印设备最快今年交付采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。去年10月中旬,佳能公司宣布推出基于纳米压印的FPA-1200NZ2C,佳能表示,该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示,这套设备的工作原理和ASML的光刻机不同,并不利用光学图...

⊙０⊙ 600台,ASML公司宣布新决定,美媒:中企开辟了“新赛道”“EUV光刻机是全人类智慧的结晶,仅凭一个国家的力量,很难造得出来。”一年前,中国院士吴汉明在科技大会上发出了与ASML公司“中国即便是拿到了EUV光刻机图纸,也造不出来”类似的感慨。光刻机是芯片制造过程中必不可少的关键设备,工作原理与照相机差不多,就是利用光源能...

蓝英装备回复关注函:公司提供清洗设备和解决方案 不直接参与其相关...【蓝英装备回复关注函:公司提供清洗设备和解决方案 不直接参与其相关设备的生产制造】财联社9月20日电,蓝英装备回复关注函:公司可以用于光刻机相关行业的产品主要是基于相关适用清洗原理/技术的专用设备和解决方案。公司根据相关用户对其设备相关零部件的清洁度和精密度需...