门上的胶怎么祛除_门上的胶怎么祛除

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ˇ△ˇ 芯源微取得一种光刻胶及金属层去除剥离单元的工艺腔体专利,避免...金融界 2024 年 7 月 18 日消息,天眼查知识产权信息显示,沈阳芯源微电子设备股份有限公司取得一项名为“一种光刻胶及金属层去除剥离单元的工艺腔体“,授权公告号 CN202322970343.8,申请日期为 2023 年 11 月 。专利摘要显示,本实用新型属于半导体晶圆生产设备技术领域,具体地...

中国一汽申请一种碳化硅沟槽形成和台面光刻胶自对准覆盖方法专利,...本发明公开了一种碳化硅沟槽形成和台面光刻胶自对准覆盖方法,包括以下步骤:在外延层表面沉积第一介质层;涂覆光刻胶并通过光刻在第一介质层上形成用于沟槽刻蚀的图形;刻蚀第一介质层和外延层,形成沟槽,并去除光刻胶;在所得物表面淀积第二介质层,刻蚀第二介质层使第一介质层...

长鑫存储申请光刻胶的去除方法、半导体器件的形成方法及系统专利,...金融界2024年3月1日消息,据国家知识产权局公告,长鑫存储技术有限公司申请一项名为“光刻胶的去除方法、半导体器件的形成方法及系统“,公开号CN117631483A,申请日期为2022年8月。专利摘要显示,本公开实施例提供一种光刻胶的去除方法、半导体器件的形成方法及系统。其中...