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尼康官宣其首款后端工艺用光刻机:1μm 分辨率,2026 财年发售IT之家 10 月 24 日消息,尼康本月 22 日宣布该公司正在研发一款面向半导体先进封装工艺应用、“兼具高分辨率及高生产性能”的 1.0 微米(即 1000 纳米)分辨率数字光刻机,该设备预计在尼康 2026 财年(IT之家注:截至 2026 年 3 月 31 日)内发售。▲ 设备概念图尼康表示,随着数据中心 A...

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创想三维3D打印机 K2 Plus开售:主动腔体恒温/双倍风冷,8999元IT之家 10 月 21 日消息,创想三维 3D 打印机 K2 Plus 今晚正式开售,其支持 350*350*350mm 大尺寸打印,具有 600mm/s 打印速度,双风道风冷、全伺服电机系统、主动腔体恒温等特性,售价为 9999 元。IT之家注:可结合满 9999 元减 1000 元券使用,到手价 8999 元。京东创想三维 3D 打印...

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TechInsights:预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦IT之家 11 月 4 日消息,TechInsights 在当地时间 10 月 24 日的分析中表示,每台 ASML 0.33 NA EUV 光刻机的功耗就已经达到了 1170 kW,而 0.55NA (High NA) 光刻机的功耗预计将进一步增长至 1400 kW(IT之家注:大致与 1000 台满载运行的电火锅相当)。▲ ASML 0.33 NA EUV 光刻机根...